如何使過(guò)飽和的氯化氫氣體析出

    高純氯化氫是集成電路生產(chǎn)中硅片蝕刻，鈍化和外延等工藝的重要材料，也可用于金屬冶煉，光導(dǎo)通訊和科學(xué)研究等領(lǐng)域。隨著大規(guī)模集成電路的發(fā)展，對(duì)氯化氫純度的要求越來(lái)越高，對(duì)其中雜質(zhì)的含量要求越來(lái)越苛刻，尤其要求嚴(yán)格限制碳?xì)浠衔锖吞佳趸衔锏暮?，以防止硅片加工過(guò)程中c的形成。國(guó)內(nèi)外對(duì)于制備高純氯化氫的方法有很多。

    20世紀(jì)70年代以前電子工業(yè)用高純氯化氫的制備一直是將濃硫酸滴加到濃鹽酸中，將其中的水吸收掉，使過(guò)飽和的氯化氫氣體析出 。20世紀(jì)8O年代以后制備方法發(fā)展到用濃硫酸與焙烘干的氯化鉀反應(yīng)，生成高純氯化氫氣體，用壓縮機(jī)壓入鋼瓶中。即曼海姆法硫酸鉀聯(lián)產(chǎn)氯化氫氣體日。此種方法生產(chǎn)的氯化氫氣體純度在99．9％(質(zhì)量分?jǐn)?shù))以上。

    為了測(cè)定在吸飽HCl-H2O件下的耐酸性，曾使樣品吸HCl-H2O飽和后，用塑料袋密封放置多天，再生后再測(cè)其吸水性能，吸水量仍未下降。其耐酸性能良好。A型分子篩耐酸性能差，吸附性能大幅度下降。JMT型干燥劑是一種含硅鋁比的絲光沸石型分子篩，具有良好的熱穩(wěn)定性，除在300℃前有一脫水而引起明顯吸熱峰外，在900℃前無(wú)明顯的分解峰，說(shuō)明其晶格具有優(yōu)良的穩(wěn)定性。

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